TruPlasma Highpulse 4002直流等離子體電源

TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發生器可作為直流濺射電源的替代方案，無需改動即可用于現有磁控系統。其提供尤為抗腐蝕且耐磨損的硬質鍍膜，因此是高功率脈沖磁控濺射應用的首要之選。

輕松適配現有陰極系統和工藝條件實現最佳設備集成。

作為*的脈沖式 PVD 濺射工藝，HiPIMS 可提供特別抗腐蝕又耐磨損的硬質鍍膜。

亦可用于直流電模式，無需額外的直流發生器。

高峰值功率產生高度離子化的等離子體并實現高離子流量。由此可取得非常連貫且致密的薄膜并避免微滴。若與極化基板配置相結合，則 TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發生器可以在刻蝕、溝填應用中提供出色結果。

可調脈沖寬度與頻率、擴展性能參數和具有極少電弧能量的全數字化電弧管理實現無液滴濺射、低限度的薄膜缺陷并保證較高的涂層質量和沉積速率。

憑借高能量與高達 2 kV 的電壓，可以制造出高質量的鍍膜——無論是在小型實驗室里還是在大型工業設施中。可達 5 ms 的脈沖與最高 10 kHz 的頻率提高了沉積速率，因此有助于降低總體經營成本。

憑借可調頻率的功率調節器確保沉積參數在高要求的反應工藝中也能保持恒定。因此，工藝得以在幾小時甚至幾天內保持穩定，無需人為介入。

TruPlasma Highpulse 系列發生器是一個緊湊型單元。其無需外部直流電源，采用全水冷設計，因此得以在潔凈室內工作。